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| 種類 | 成份 | 規(guī)格 | 種類 | 成份 | 規(guī)格 |
| 稀 土 雜 質(zhì) （%） | TREM | 99% | 非 稀 土 雜 質(zhì) （%） | Fe | 0.3 |
| Ce/TREM | 99.9% | C | 0.05 | ||
| La/TREM | 0.01 | Si | 0.05 | ||
| Pr/TREM | 0.01 | Ca | 0.02 | ||
| Nd/TREM | 0.01 | Mg | 0.05 | ||
| Sm/TREM | 0.01 | Zn | 0.05 | ||
| Y/TREM | 0.01 | P | 0.01 | ||
| / | / | S | 0.01 | ||
| 以上產(chǎn)品規(guī)格可以根據(jù)客戶要求定制 | |||||
| 靶材介紹 | ||||||
靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料，通過更換不同的靶材（如鋁、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等），即可得到不同的膜系（如超硬、耐磨、防腐的合金膜等）。通常是在真空中加熱蒸發(fā)形成薄膜，可以通過磁控濺射、電子束蒸發(fā)、激光濺射等技術(shù)來制備薄膜。 | ||||||
| 優(yōu)質(zhì)靶材的要求 | ||||||
| 1、雜質(zhì)含量低，純度高。靶材的純度影響薄膜的均勻性。 | ||||||
2、高致密度。高致密度靶材具有導(dǎo)電、導(dǎo)熱性好、強(qiáng)度高等優(yōu)點(diǎn)，使用這種靶材鍍膜，濺射功率小，成膜速率高， 薄膜不易開裂，靶材使用壽命長，而且濺鍍薄膜的電阻率低，透光率高。 | ||||||
| 3、成分與組織結(jié)構(gòu)均勻。靶材成分均勻是鍍膜質(zhì)量穩(wěn)定的重要保證。 | ||||||
| 4、晶粒尺寸細(xì)小。靶的晶粒尺寸越細(xì)小，濺鍍薄膜的厚度分布越均勻，濺射速率越快。 | ||||||
| 靶材的分類 | ||||||
| 按照化學(xué)成分 不同可分為 | （1）金屬靶材（純金屬鋁、鈦、銅、鉭等）。 | |||||
| （2）合金靶材（鎳鉻合金、鎳鈷合等）。 | ||||||
| （3）陶瓷化合物靶材（氧化物、硅化物、碳化物、硫化物等）。 | ||||||
| 按照形狀不 同可分為 | 矩形靶、圓形靶、柱形靶、空心旋轉(zhuǎn)圓管靶以及異形靶。 | |||||
| 按照應(yīng)用領(lǐng)域不同可分為 | （1）半導(dǎo)體芯片靶材 | |||||
| （2）平面顯示器靶材 | ||||||
| （3）太陽能電池靶材 | ||||||
| （4）信息存儲(chǔ)靶材 | ||||||
| （5）電子器件靶材 | ||||||
| （6）其他靶材 | ||||||
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