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靶材

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濺射及蒸鍍用靶材
產(chǎn)品名稱純度形狀
鑭靶2N5-4N方靶圓靶旋轉(zhuǎn)靶異形靶均可定制
鈰靶2N5-3N方靶圓靶旋轉(zhuǎn)靶異形靶均可定制
鐠靶2N5-3N方靶圓靶旋轉(zhuǎn)靶異形靶均可定制
釹靶2N5-3N方靶圓靶旋轉(zhuǎn)靶異形靶均可定制
釤靶3N5方靶圓靶旋轉(zhuǎn)靶異形靶均可定制
銪靶4N方靶圓靶旋轉(zhuǎn)靶異形靶均可定制
釓靶2N5-3N方靶圓靶旋轉(zhuǎn)靶異形靶均可定制
鋱靶4N方靶圓靶旋轉(zhuǎn)靶異形靶均可定制
鏑靶2N5-3N方靶圓靶旋轉(zhuǎn)靶異形靶均可定制
鈥靶2N5-3N方靶圓靶旋轉(zhuǎn)靶異形靶均可定制
鉺靶2N5-3N方靶圓靶旋轉(zhuǎn)靶異形靶均可定制
銩靶2N5-3N方靶圓靶旋轉(zhuǎn)靶異形靶均可定制
鐿靶4N方靶圓靶旋轉(zhuǎn)靶異形靶均可定制
镥靶2N5-3N方靶圓靶旋轉(zhuǎn)靶異形靶均可定制
釔靶2N5-3N方靶圓靶旋轉(zhuǎn)靶異形靶均可定制
鈧靶4N-5N方靶圓靶旋轉(zhuǎn)靶異形靶均可定制
鎂靶4N方靶圓靶旋轉(zhuǎn)靶異形靶均可定制
銀靶4N方靶圓靶旋轉(zhuǎn)靶異形靶均可定制
鋰靶3N方靶圓靶旋轉(zhuǎn)靶異形靶均可定制


靶材介紹

靶材就是高速荷能粒子轟擊的目標(biāo)材料,通過更換不同的靶材(如鋁、銅、不銹鋼、鈦、鎳靶等),即可得到不同的膜系(如超硬、耐磨、防腐的合金膜等)。通常是在真空中加熱蒸發(fā)形成薄膜,可以通過磁控濺射、電子束蒸發(fā)、激光濺射等技術(shù)來制備薄膜。

優(yōu)質(zhì)靶材的要求
1、雜質(zhì)含量低,純度高。靶材的純度影響薄膜的均勻性。

2、高致密度。高致密度靶材具有導(dǎo)電、導(dǎo)熱性好、強(qiáng)度高等優(yōu)點(diǎn),使用這種靶材鍍膜,濺射功率小,成膜速率高,

薄膜不易開裂,靶材使用壽命長,而且濺鍍薄膜的電阻率低,透光率高。

3、成分與組織結(jié)構(gòu)均勻。靶材成分均勻是鍍膜質(zhì)量穩(wěn)定的重要保證。
4、晶粒尺寸細(xì)小。靶的晶粒尺寸越細(xì)小,濺鍍薄膜的厚度分布越均勻,濺射速率越快。
靶材的分類
按照化學(xué)成分
不同可分為
(1)金屬靶材(純金屬鋁、鈦、銅、鉭等)。
(2)合金靶材(鎳鉻合金、鎳鈷合等)。
(3)陶瓷化合物靶材(氧化物、硅化物、碳化物、硫化物等)。
按照形狀不
同可分為
矩形靶、圓形靶、柱形靶、空心旋轉(zhuǎn)圓管靶以及異形靶。
按照應(yīng)用領(lǐng)域不同可分為(1)半導(dǎo)體芯片靶材
(2)平面顯示器靶材
(3)太陽能電池靶材
(4)信息存儲靶材
(5)電子器件靶材
(6)其他靶材



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